获三星电子好评 韩国东进世美肯正计划研发新一代极紫外光刻胶

在三星电子重构EUV光刻胶供应链的推动下，东进世美肯成功研发出极紫外光刻胶，并于去年年底将其应用于一条量产工艺线。近日，媒体报道称东进世美肯正在为下一代极紫外光刻机——高数值孔径极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。

随着阿斯麦不断推出新型号的极紫外光刻机，如TWINSCAN NXE:3400C和TWINSCAN NXE:3600D等，东进世美肯紧跟其后，为阿斯麦新一代高数值孔径极紫外光刻机研发所需的光刻胶。这种高数值孔径光刻机，将沿袭EXE系列的命名，推出TWINSCAN EXE:5000和TWINSCAN EXE:5200两个型号。

值得一提的是，阿斯麦高数值孔径极紫外光刻机的数值孔径将从0.33提升至0.55，为2nm及以下的先进制程工艺提供支持。据报道，首台光刻机计划在今年年底出货给客户用于研发，而全面投入运营的大规模生产版本则预计将在2025年开始在客户工厂中运行。这一重要进展标志着半导体制造技术的又一次重大突破，令人期待未来更多精彩表现。